Anwendung

Photolack-Entfernung

Die bewährten Vorteile unserer Resist-Strip-Anwendungen umfassen die Einsparung von Prozessmedien, die Verbesserung der Produktqualität und die Steigerung der Betriebssicherheit. Erfahren Sie mehr über Fotoloackentfernung mit der BATCHSPRAY® Technologie.

Prozesse mit BATCHSPRAY® Resist-Strip-Anwendungen

► Implanted Photo Resist Strip
► Positive and Negative
► Resist Rework
► Resist Strip
► SicOzone Strip
Resist Stripping

Photoresist Strip

Der Photolack wird entweder durch das SicOzone-Verfahren oder durch lösungsmittelbasierte Medien entfernt.

Resist-Strip-Anwendungen

Anlagen

Acid Autoload

Solvent Autoload

Clean Autoload

Acid/Solvent Autoload

Acid/Clean Autoload

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